裝置簡(jiǎn)介在化學(xué)反應(yīng)工程研究中,反應(yīng)器一般可以分成“微分反應(yīng)器"和“積分反應(yīng)器"兩種形式,一般簡(jiǎn)稱(chēng)為“微反"和“積反"。兩者的反應(yīng)器配置和結(jié)構(gòu)不同,實(shí)驗(yàn)流程也不同,實(shí)驗(yàn)原理和實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理方式的不同,對(duì)催化劑和反應(yīng)器結(jié)構(gòu)的要求也不同,因此在反應(yīng)研究中又有不同的使用目的,采用不同的取樣和分析方法,評(píng)價(jià)和實(shí)驗(yàn)的目的也不一樣,可以得到不同方面的試驗(yàn)結(jié)果。
產(chǎn)品型號(hào):瑞泰豐RFFY-GW
更新時(shí)間:2023-06-16
訪(fǎng)問(wèn)次數(shù):4761
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
在線(xiàn)留言品牌 | RTF/瑞泰豐 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油 |
高壓微反應(yīng)器裝置流程:
本裝置設(shè)有四個(gè)氣路進(jìn)料。
1.氣路流程:
由鋼瓶或管線(xiàn)中來(lái)的高壓反應(yīng)氣體經(jīng)干燥罐、脫出罐后,進(jìn)入過(guò)濾器,以過(guò)濾掉氣體中的可能的微小固體顆粒后進(jìn)入到氣體穩(wěn)壓閥,該穩(wěn)壓閥的作用是穩(wěn)定質(zhì)量流量計(jì)氣體進(jìn)口的壓力,尤其當(dāng)氣體使用量比較大時(shí),氣源壓力可能會(huì)有明顯變化,其閥后壓力可由壓力表讀出。并通過(guò)設(shè)定流量?jī)x表的數(shù)值,來(lái)控制該流量計(jì)的流量,流量的真實(shí)值可以從儀表上讀出。但需要注意的是,該讀數(shù)是指該種氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的體積,而不是當(dāng)前溫度和壓力下的體積流量,需要根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)條件進(jìn)行換算。同時(shí)如果不是空氣或氮?dú)?,還應(yīng)該按照流量計(jì)說(shuō)明書(shū)后面的氣體表中的流量系數(shù)進(jìn)行校正。
在質(zhì)量流量計(jì)前后有充壓短路閥,當(dāng)反應(yīng)開(kāi)始進(jìn)行時(shí),為了快速完成升壓過(guò)程,可以利用此閥對(duì)反應(yīng)器快速充壓,也可以在反應(yīng)結(jié)束或開(kāi)始的時(shí)候清洗或吹掃時(shí)使用。
高壓微反應(yīng)器裝置---反應(yīng)器
反應(yīng)器上部及下部結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易操作的密封頭,可以直接把密封螺帽擰緊就可以。為了準(zhǔn)確的控制反應(yīng)溫度,在反應(yīng)器外壁有控制溫度傳感器,同時(shí),為了準(zhǔn)確測(cè)得反應(yīng)器內(nèi)部的溫度,以及考察反應(yīng)是否是恒溫,而又能測(cè)定催化劑床層的軸相溫度分布,在反應(yīng)器內(nèi)部有一個(gè)測(cè)溫?zé)犭娕?,該熱電偶能自由移?dòng)。反應(yīng)器下部有一個(gè)出口,反應(yīng)器出口的氣體經(jīng)直型冷凝器冷卻后進(jìn)入氣液分離器中。反應(yīng)爐為特殊設(shè)計(jì)的大熱容量開(kāi)式加熱爐,爐內(nèi)分一段加熱,溫度可以任意設(shè)定,特殊的加熱方式保證了爐內(nèi)恒溫區(qū)的長(zhǎng)度優(yōu)于其他加熱形式,可以在強(qiáng)反應(yīng)熱的環(huán)境中保持溫度穩(wěn)定,適合于各種反應(yīng)場(chǎng)合。加熱爐為合金襯管,保障了恒溫效果。
控制部分:
裝置整體采用PID控制,位式控制及人工自能調(diào)節(jié),采用*進(jìn)的算法及積分控制,保證了反應(yīng)器控溫精度及穩(wěn)定性。整體控制系統(tǒng)具有異常工作狀態(tài)報(bào)警,當(dāng)催化劑床層溫度超過(guò)限定值時(shí)發(fā)出聲光報(bào)警的同時(shí)可以自動(dòng)切斷設(shè)備供電及停止相關(guān)電路。并配有計(jì)算機(jī)及控制軟件。裝置控制整體集中到工業(yè)觸摸電腦上,控制軟件為組態(tài)控制,控制操作通過(guò)電腦執(zhí)行,平板電腦鑲嵌于設(shè)備上。裝置框架采用靜電噴涂工藝。
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